低溫恒溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

　　低溫恒溫槽是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源， 可在機內水槽進行恒溫實驗，或通過軟管與其他設備相連，作為恒溫源配套使用。泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業(yè)質檢及生產部門，為用戶工作時提供一個冷冷受控，溫度均勻恒定的場源，對試驗樣品或生產的產品進行恒定溫度試驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。

　　低溫恒溫水槽應用范圍：

　　對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

　　對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。

　　低溫恒溫槽常見問題：

　　1、水循環(huán)使用了一年多都很正常，可現(xiàn)在制冷速度好像越來越慢了，在氣溫越高時越明顯？

　　答：水循環(huán)使用很簡單，但是定期的維護保養(yǎng)工作還是不能忽視的。有很多看似故障的毛病其實就是沒有定期做維護保養(yǎng)引起的。水循環(huán)自身的電功率和制冷劑從負載中帶走的熱量都需要從前通風罩處的散熱器中排走，如果前通風罩上吸滿灰塵和柳棉等就會妨礙這些熱量的散發(fā)，制冷效果將大打折扣。低溫恒溫水槽一般來說在正常的使用條件下制冷量下降都是因為通風散熱效果太差或環(huán)境溫度太高引起的。

　　2、水循環(huán)以前使用都很正常，可現(xiàn)在發(fā)現(xiàn)噪音比以前大很多，這是什么原因？

　　答：前面提到過水循環(huán)的日常維護工作，這個問題也與之有關。大家都知道，水里面有很少部分的雜質，就是蒸餾水在加到水箱后也不可能*保證一點雜質都沒有。對于水循環(huán)而言，一般溫度都設置在20℃，特別適應微生物的生長和繁衍。時間長了以后這些微生物就會堵塞水路的過濾器造成回水不暢，水泵就會有較大的噪音。有時這些微生物附在了換熱器的表面，造成換熱器的傳熱效果變差，制冷量變小。所以一定要嚴格按照說明書中的要求做好日常維護工作，定時清洗內槽，長期停用，保持槽內干燥。水循環(huán)里面好像有漏水，有時地面一會兒就有幾滴，是不是水路上有地方泄漏？ 一般來說在正常使用的過程中，水路是不會有泄漏的。在環(huán)境溫度比較高空氣中的相對濕度又太大時，在水循環(huán)的水路中的水泵、水管接頭、外接水管處容易凝結露水，累積多了以后就滴到地面上了，不用擔心是水路中有漏水的地方。如果您對這很介意的話，打開空調降低房間溫度或是除濕都可以避免露水的產生。

　　低溫恒溫水槽對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。